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原子层沉积系统
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原子层沉积系统

原子层沉积系统ALD

    型号:Savannah-100

    主要功能:ALD可以进行多组份纳米薄层和混合氧化物沉积,例如对晶体管栅极电介质层(高k材料),光电元件的涂层,有机发光显示器的反湿涂层和薄膜电致发光(TFEL)元件,微机电系统(MEMS)的反静态阻力涂层和憎水涂层的种子层,纳米颗粒的涂层,纳米孔内部的涂层,纳米线的涂层进行加工。

    技术指标:本设备含4路前驱体,基片尺寸最大10 厘米 (4英寸),加热温度范围从室温~600摄氏度,膜层厚度标准偏差≤1%

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