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磁控溅射系统
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磁控溅射系统

磁控溅射系统

    制造商:沈阳科诚真空技术有限公司

    主要功能:磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率,从而实现高质量金、镍、钛、铝、ITO、氧化硅等薄膜制备。

    技术指标:3支¢100永磁靶(带挡板)一支¢50永磁靶;极限真空度:6×10-5 Pa;衬底可加热,室温~350;衬底可调速自转。

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