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印刷电子中心与广州森万象新材料公司共建微纳光学联合工程实验室
2017/12/8

      近日,中科院苏州纳米所印刷电子中心与广州森万象新材料科技有限公司共建的“微纳光学联合工程实验室”正式启动。这是继双方在委托技术开发合作一年后并取得丰硕成果的基础上,进一步建立长期战略合作的新举措。在苏州纳米所技术转移中心的大力支持下,双方已完成了合作协议的签定。合作企业除了对联合工程实验室提供资金支持外,同时拟在中科院苏州纳米所印刷电子中心放置一台高端激光直写设备,用于图形化微纳结构的工程开发。企业方同步在广州成立纳米光学材料联合实验室,聘任中科院苏州纳米所印刷电子中心技术团队负责人苏文明研究员为联合实验室主任兼公司首席科学家。

      广州森万象是一家聚焦于高端照明的光学新材料高新企业,近年来大力寻求微纳米光学材料新技术的开发与创新。中科院苏州纳米所印刷电子中心长期重视产业化应用技术的工程化开发,建立了“印刷电子工程中心”, 并于2015年获批成为“江苏省印刷电子工程实验室”。广州森万象自2016年以来与中科院苏州纳米所印刷电子中心开展合作,通过委托技术开发共同研制新型光扩散与防眩薄膜。在合作过程中,苏文明研究员带领团队成员与企业研发人员成功开发出全球首款可用于LED白光照明面光源的兼具光扩散与防眩功能的大尺寸光学薄膜(600 x 600 mm2),其防眩与光扩散指标同时达到欧盟标准。这是继苏州纳米所印刷电子中心的国际领先水平印刷金属网栅透明导电膜技术产业化并在行业产生重大影响力之后,又一次帮助合作企业取得了具有国际竞争力的核心技术突破,发挥了中科院科研服务于国民经济主战场的作用。双方希望通过共建联合实验室,进一步加强合作,争取在更多领域实现技术的创新,保持企业的技术领先地位。

(印刷电子中心 金曼曼)

联合实验室主任聘书

基于微纳结构的大面积光扩散/防眩膜

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